中國科學院光電技術研究所（suǒ）真空/深紫外鍍膜課題組在真空紫外反射濾光片（piàn）製備方麵取得進展，通過光譜反演技（jì）術獲取光學薄（báo）膜材料在真空紫外波段的光學常數（shù），進而（ér）優化真空紫外反（fǎn）射濾光（guāng）膜膜係設計，並運用熱蒸發真空鍍膜工藝製備出高性能的真空紫外反（fǎn）射濾光片。

極光在真空紫外波段的（de）輝光（guāng）發射可提供諸如（rú）極光總能（néng）量、極光特征粒子種類和特征粒子能量等重要信息，使得極光光譜成像成為天體物（wù）理研究的重要課題。目前，科研人員對真空紫外波段的極光光（guāng）譜成像（UVI）研究主要包括氧原子發射線（130.4和135.6nm）和氮（dàn）分子發射帶（dài）（140-160和160-180nm）。為了獲取極光（guāng）總能量和上述各種特（tè）征離子能（néng）量迫切需要高性能的真空紫外光學濾光片。由於所有的光學薄膜（mó）材料在真空（kōng）紫外波（bō）段均具有極大的吸收損耗，常用（yòng）的透射式光學濾光片不可取，使得反射式光學濾（lǜ）光片成為UVI係統的首選。

以氧原子發射線光譜成像為例，需要製備出一種R135.6nm/R130.4nm足夠高的反射濾光（guāng）片。國外Zukic等研究人員首先提出采用p結構（gòu）多層膜設計，優化真空紫外反射濾光片的光譜性能。但是，p結構多（duō）層膜（mó）設計中存在大量厚度極薄的膜層，增加了真空鍍膜的製（zhì）備難度。此外，光學薄膜材料在真空紫外波段的光學常數正（zhèng）確獲取與否，也將顯著地影響反（fǎn）射濾光片的最終光譜性能。該（gāi）課題組研（yán）究人（rén）員通過光譜反演技術準確獲取薄（báo）膜光學常數，並限製反射濾光膜膜係中薄層厚度，優化反射濾光膜（mó）膜係設計，通過熱蒸發真空鍍膜工藝製備出理論設計和實測光（guāng）譜數據一（yī）致性良好的（de）真空紫（zǐ）外（wài）反（fǎn）射濾光片。實測0°和45°入射角（jiǎo）下的（de）反射濾光膜，其（qí）R135.6nm/R130.4nm比值分別為92.7和20.6，遠優於國外（wài）製備的真空紫（zǐ）外反射濾光片。相關（guān）成果發表在Appl. Opt. (Appl. Opt. 54(35), 10498-10503, 2015)上。

光電所（suǒ）在真空紫外反射濾光片製備方麵取得進展