改（gǎi）動光與光學器件相互作用的（de）光學薄膜隨（suí）處可見，而且廣泛運用（yòng）於各種範疇（chóu）。例如用於眼鏡和照相機鏡頭外表的寬帶增透（tòu）膜，用於軍民兩用（yòng）激光和光纖設備中更為雜亂（luàn）的增透膜。修建照明、夜視鏡運用（yòng）的是（shì）光學帶通濾光片技（jì）能，而挑選性地反射不一樣波長（zhǎng）光的鏡子用於家庭裝潢和影劇院增加燈光效果。

Evatec公司的市場部司理Allan Jaunzens在歐洲光學網（Optics.org）發文對光（guāng）學（xué）薄膜的真空熱蒸騰和濺射製備技能進行了總結，並（bìng）對下一代製備光學薄膜（mó）的新技能進行了展望。現摘譯如下：

傳統真空熱蒸騰

真空熱蒸騰是最早確立且最為廣泛運用的（de）光（guāng）學薄膜製備（bèi）技能，這種製備辦法經過加熱（rè）薄膜原資料使得原子或許分子（zǐ）從薄膜（mó）原資料中逸出，隨（suí）後這些原子或分子在真空室內經過分散抵達基片，然後澱積在基片上構成接連膜。依據蒸騰薄膜原資料組份的不（bú）一樣，真空熱蒸騰能夠分為熱舟蒸騰、電子束（shù）熱蒸騰。運用這種薄膜製備技能，在不（bú）一樣的蒸騰源中放入不一樣的資料經過操控（kòng）蒸騰功率和鍍膜時間交替蒸騰原資料，能夠取（qǔ）得滿意規劃請求的多層膜堆。為取得最好的基底與薄膜的聯係功能和光學特性（xìng），在鍍膜進程中基底一般進行烘烤以及要衝（chōng）入反響氣體以取得滿意（yì）化學計量比（bǐ）的薄（báo）膜。現在運用真（zhēn）空熱蒸騰（téng）技能（néng）已（yǐ）能鍍製100層以上的薄膜。

離子輔佐熱蒸騰

因為澱積粒子能量低（一般0.1-1eV）以及低的外表遷移性，使得傳統熱蒸騰辦法所製備薄膜（mó）堆積密度較低，存在光學和力學方麵的不安穩性。離子輔佐澱積是在真空熱蒸騰基礎（chǔ）上為改進光學薄膜（mó）質量而發展起來的。它經過運用離子源發生荷能離子炮擊基片，經過動量搬運，使澱積（jī）粒子取得較大動能，提高澱積（jī）粒子的遷移功能，改進（jìn）傳統熱蒸騰辦法帶來的空地和陰影效應。取得（dé）更高能量澱積粒子的輔佐辦法是等離子體輔（fǔ）佐和離子鍍辦法，在這種製（zhì）備（bèi）辦法中，蒸騰資料自身也被部別離（lí）化，粒子抵達（dá）基片外（wài）表時具有很高的動（dòng）能，到達10eV。運（yùn）用此（cǐ）辦法製備的（de）薄膜，堆積密度高，十分挨近理論上的資（zī）料值，當放置在空氣中時（shí），幾乎沒有水吸收。此類（lèi）薄膜還具有高的折射率，傑出的附著功能，力學（xué）功能和安穩性（xìng），當被加熱（rè）或放在較濕環境中時，幾乎沒有光譜漂移。但此辦法比較傳統熱蒸騰辦法花費更高的本錢。

磁控濺射

最（zuì）常用的磁控（kòng）濺射體係是反響磁控濺射，運用所需薄膜資料（liào）的源作為靶材，放置在真空室內。在（zài）靶材外表，運用強磁場（chǎng）和強（qiáng）電場束縛電子運動，使得靶外表的作業氣體的發生正電荷等離子體。 因為這種電子的磁束縛，增加了帶能電子與作業氣（qì）體分子磕碰的概率，構成了更高的離化率。帶電離（lí）子在電場（chǎng）中加快衝擊靶（bǎ）才外表，在這種炮擊進程中，荷能粒（lì）子將動量傳遞靶材中的粒子，使得（dé）靶材粒子彈射出固體外表。這個進程與加熱致使的（de）蒸騰進程截然不一樣。濺射出來（lái）的粒子一般為中性，因而，不受到靶外表（biǎo）電磁場的束縛，而經過在真空室的運動到基底（dǐ）外表，並在適宜的方位上凝結成薄膜。真空中的運（yùn）動長度一般是40~100毫米。這（zhè）個堆積進（jìn）程（chéng）一般也是反響進（jìn）程，需要向真空室中充入摻雜氣（qì）體，如氧（yǎng）氣。

在曩昔十年，因為電源技能和進程操控技（jì）能的發展，磁控濺射技能在光學薄膜範疇取得了十分廣泛（fàn）的運用。今日，大規模出產中運用反響（xiǎng）磁控濺射技能取得的（de）光譜操控精度（dù）優（yōu）於正負（fù）1%，一起，該技能（néng）能（néng）夠（gòu）取得（dé）極高的產率和重複性。

因為堆積粒子具有（yǒu）很高的動能和移動性，運（yùn）用磁控濺射技（jì）能製備（bèi）薄膜具有構造細密、安穩的薄膜，能夠取得優良的（de）機械（xiè）功能和光學安穩性（xìng），這使得（dé）磁控濺射技能變成許多薄膜製備需要的首選技（jì）能。靶與（yǔ）基底（dǐ）方位聯（lián）係有立式和（hé）水平式兩種挑選，這也為磁控濺射（shè）體係的規劃帶來了便當。磁控濺射技能一般不需（xū）要額定的加熱體係。 其缺點是（shì），隻能在平的基底上堆積均勻的薄膜，且前期投資很高。

離子束濺射

離子束濺射澱積（jī）是一種高能薄膜製備技能，它運用獨立的離子源發生離子（zǐ）束炮擊靶材實施濺射澱積。激（jī）光陀（tuó）螺儀用鏡片嚴苛的背散射請求需要十（shí）分優質的薄膜外表質量，離子束（shù）濺射澱積技能初始即是為了製備高質量的（de）激光陀螺儀用鏡片而（ér）發展起來的。

離子束（shù）濺射澱（diàn）積技能雖然澱積速率相對較（jiào）低，但其挨近20eV的高能澱積粒子有助於膜的構成，比較於（yú）其它薄膜製（zhì）備技能，膜層能夠取得最好的機械、光學功能，從而使其傾向於運用在一些（xiē）對（duì）薄膜請求十分嚴苛的範疇。

下一代技能

高功率脈衝磁控濺射(HIPIMS或HPPMS)是（shì）一種新（xīn）式（shì）磁控濺射技能，它能在50~200微秒的時間內發（fā）生kW/cm²量級的超高能脈衝，其重複頻率能夠到達100Hz以上。靶電流密度能到（dào）達（dá）A/cm²量級，這將（jiāng）大大（dà）提高濺射原子的離化率。已經有（yǒu）許多報道聲稱他們運（yùn）用這種技能取得了附著力和耐磨才能極好的無缺點薄膜。這些薄膜能夠運用高溫腐蝕環境，包括航空航天技能中。

更（gèng）深化的了（le）解薄膜的構造與性質之間的聯係是開發和運用這些薄膜技（jì）能的要（yào）害的地方。