中國科（kē）學（xué）院光電技術研究所真空/深紫外鍍膜課題組在真空紫外反射濾光片（piàn）製（zhì）備方麵（miàn）取得進展，通過光譜反（fǎn）演技術獲（huò）取光學薄膜材料在真空紫外波（bō）段的光學常數，進而優化真空紫外反射濾光（guāng）膜膜係設計，並運用熱蒸發真空鍍膜工（gōng）藝製備出高性能的真空紫外反射濾光片。

極光在真空紫外波段的（de）輝光發射可提供（gòng）諸如極（jí）光總（zǒng）能量、極光（guāng）特征粒子種類（lèi）和特征粒子能量等重要信息，使得極光光譜成像成為天體物理研究的（de）重要課題（tí）。目前，科研人員對真空紫（zǐ）外波（bō）段的極光光（guāng）譜成（chéng）像（UVI）研究主要包括氧原子發射線（130.4和135.6nm）和（hé）氮（dàn）分子發射帶（140-160和160-180nm）。為了獲取極（jí）光總能量和上述各（gè）種特征（zhēng）離子能量迫切需要高性能（néng）的真（zhēn）空紫（zǐ）外（wài）光學濾光片。由於所有（yǒu）的光學薄膜材料在真空紫外波段均具有極大的（de）吸收損耗，常用的透射式光學濾光片不（bú）可取，使（shǐ）得反（fǎn）射式光學濾光片（piàn）成（chéng）為UVI係統的首選。

以氧原子發射線（xiàn）光譜成像為例，需要製備出一種R135.6nm/R130.4nm足夠高的反射濾光片。國外Zukic等研（yán）究人員首先提出采用p結構多層膜（mó）設計，優化真空紫外反射（shè）濾光片的光譜性能。但是，p結構（gòu）多層膜設計中存在大量厚度極薄的膜層，增加了真空鍍膜的製備（bèi）難度。此外，光（guāng）學薄膜材料在（zài）真空紫外波段的光學常數（shù）正確獲取與否，也將顯著地影（yǐng）響反射濾光片的最終（zhōng）光譜（pǔ）性能。該課題組研究人員通過光（guāng）譜反演技術準確獲取薄膜（mó）光學常數，並（bìng）限製反射濾（lǜ）光膜膜係（xì）中薄層厚度，優化反射濾光（guāng）膜膜係（xì）設計，通過熱蒸（zhēng）發真空鍍膜工藝製備出理論（lùn）設計和實測光譜數據一致性良好的真空紫外反射濾光片。實測0°和45°入射角下的反射濾光膜，其R135.6nm/R130.4nm比值分別為92.7和20.6，遠優於國外製備的真空紫外（wài）反射濾光片。相關成（chéng）果發（fā）表在Appl. Opt. (Appl. Opt. 54(35), 10498-10503, 2015)上（shàng）。

光電所在真空紫外（wài）反射濾光片（piàn）製備方麵取得進展