光學體係效果：改變光（guāng）線的傳（chuán）達方向。
組成（chéng）：不一樣（yàng）曲麵（miàn）形狀的和不一（yī）樣介質(玻璃，晶體等)的光學零件——反射鏡，透鏡，棱鏡。正透鏡（jìng）：會聚光
舉例：望遠（yuǎn）鏡光學（xué）體係，顯微鏡
理論：光線和波麵的傳達規則
抱負體係：點對點，直線成像為直線，平麵成像為（wéi）平麵。
對稱共軸抱負體係（xì）其它性質
(1)光軸上的物點，像點也在光軸上（shàng）。(2)過光軸的截（jié）麵內的物（wù）點，與其像（xiàng）共麵。(3)過光軸（zhóu）的恣意截麵性質都是（shì）一樣的。(4)垂直於軸的平麵，同一麵內具有一樣的（de）放大率。(5)由已知條件斷定抱負光學（xué）體係的成像性質：已知（zhī）兩對共軛麵方位及放（fàng）大率;或已知一對共軛麵方位及放大率，再加上光軸上的兩對共（gòng）軛點。
共軛（è）麵：一（yī）對物象麵，且垂直於光軸。物（wù）像對應聯係叫做“共軛”。
基麵和基點：通常將這些（xiē）已知的共（gòng）軛麵和共軛點別離稱為共軸體係的“基麵”和“基點”。
作圖法證實[1]：
①已知兩對共軛麵的方位（wèi）和放大率
圖1
②已知一對共軛麵的（de）方位和放（fàng）大率，以及軸上兩對共軛點的方位
圖2
有關名詞
共軸體係（xì），非共軸體係;光軸;球麵體係;共軸（zhóu）球麵體係;放大率;物像聯係。
要害規（guī）劃（huá）參量
一、漸暈
光學體係通常存在30%~40%的漸暈（yūn）。假如來自視場中各點的（de）光束徹（chè）底充溢孔徑光闌（lán）而不被光闌周圍的孔徑所遮擋，則體係沒有漸暈。
二、視場光闌
實際上，全部光學體係的入瞳總有必定巨細，有時（shí）乃至很大，因而大多數情況下，某軸外物點的主光線雖不（bú）能經過入窗，但該物點發出的一部分可經過入窗（chuāng）進入體係。可以約束大多數光線(平行於軸)空間場的麵叫視場光闌（lán）。
視場光闌（lán）經過其前（qián）麵的光學體係於物空間所成的像為入窗。斷（duàn）定（dìng）視（shì）場光（guāng）闌（lán）的方法是（shì）：把體係中除孔徑光闌以外（wài）的一（yī）切光闌（lán）經過其（qí）前麵（miàn）的光組成像，入瞳中心所對張角（jiǎo）最小的像所對應的為視場光闌。在物空間，邊際主光線與光軸間夾角稱為物方半視場角（jiǎo），其巨細是入瞳中心所對（duì）入窗張角的一半。與視場共軛的像平麵的範圍為像場。關於矩形探測器，像麵最大不能超過像場(通常為圓形)的內接矩形（xíng），即像麵對角線應等（děng）於像場的直徑（jìng）。
三、消雜（zá）光闌
光學體係的雜光有非成像物體入射（shè）的輻射，也有光學零件、機械零件反射和散射的輻射。雜光源大多數處在儀器以外，因而應（yīng）合理操控鏡筒內壁的外（wài）表反射。常用的方法是鏡筒壁車（chē）螺紋並噴褐色無光漆或加雜（zá）散光擋板。
消雜光闌斷定的原則如下：
1.探測（cè）器探測到的場景越大，則它承受的漫（màn）散射就越多，所以（yǐ）擋光罩和（hé）透鏡鏡筒應盡（jìn）也許遠離物場。
2.來自黑外表的多（duō）重反射能消除漫散射，能阻撓任一（yī）光線反（fǎn）射到探測器。
3.當光罩尖利的邊際（jì）會導致光衍射，所以擋光罩的孔徑要調節，後邊的擋光罩內徑應略小。[2]
規劃進程（chéng）
光學體係的規劃過程通常請（qǐng）求如（rú）下：
1.依據（jù）運用（yòng）請（qǐng）求擬定合理的技術參數。從滿意運用請求（qiú）的程度動身，擬定光學體係（xì）合理的技術參數。
2.光學體係總體規劃和規（guī）劃。
3.光學部件(光組、鏡頭)的規劃。通常（cháng）分為選型、斷定初始構造參數、像（xiàng）差校對3個階段。
4.長光路的拚接與統（tǒng）算。以（yǐ）總（zǒng）體規劃為依據，以像差（chà）評估為繩尺（chǐ），來進行（háng）長光路（lù）的拚接與統算。假如（rú）成果不合理（lǐ），則應重複試算並調整各光組的方（fāng）位與構造，直至抵達預期的方針。
5.光學體係的公役（yì）擬定。非配整個（gè）體係中一切光（guāng）關顧額原件和光學機械原件及尺度的加工公役（yì），進行公役核算，保證（zhèng）體係以（yǐ）合理的本錢完成所請求的光（guāng）學功能。
在擬（nǐ）定光學體係公役的進程中（zhōng），需要給體（tǐ）係中一切（qiē）的光學元件和光學機械原件分配公役，包括一切的（de）透鏡和反射鏡以及直接（jiē）或直接支持光學原件的機械元件。體係的總方針是在滿意光學功能（néng）的請求的前提下（xià），使（shǐ）光學原件的本錢（qián）、裝諧（xié）和校準的本錢抵達最低。擬定光學體係公役的（de）過程如下：
1.為一切光學元件和機械元件分配（pèi）可變公役;
2.選擇調整參數，如後截距等;
3.公役的靈敏度剖析;
4.從頭（tóu）估量公役，查看是不是有改變;
5.增加其他不能（néng）被程序模仿的公役的影響;
6.估計總（zǒng）的體係功能並進行（háng）差錯核算;
7.加嚴對體係靈敏參數的公役，放寬非（fēi）靈敏參數的公役，並核算功能;
8.重（chóng）複過程7直至以合理的（de）開支滿意體係功能;
9.假如體係功能不能完成，則進行從頭規劃。
